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氮氣在真空高溫氣氛爐中的應用原理

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氮氣在真空高溫氣氛爐中的應用原理

真空氣氛爐是真空技術與熱處理技術相結合的新型熱處理技術,真空熱處理所處的真空環(huán)境指的是低于個大氣壓的氣氛環(huán)境,包括低真空、中等真空、高真空,真空熱處理實際也屬于氣氛控制熱處理。真空爐是有嚴格的真空密封裝置,金屬零件進行真空熱處理均在密閉的真空爐內進行,因此,獲得和維持爐子原定的漏氣率,真空爐的工作真空度,對確保零件真空熱處理的質量有著非常重要的意義。真空熱處理是指熱處理工藝的全部和部分在真空狀態(tài)下進行的,真空熱處理可以實現(xiàn)幾乎所有的常規(guī)熱處理所能涉及的熱處理工藝,但熱處理質量大大提高。與常規(guī)熱處理相比,真空熱處理的同時,可實現(xiàn)無氧化、無脫碳、無滲碳,可去掉工件表面的磷屑,并有脫脂除氣等作用,從而達到表面光亮凈化的效果。

    氮氣在真空氣氛爐中的應用原理主要包含兩個方面,都是利用氮氣的化學性質穩(wěn)定、不活潑性質,是在加熱時,特別是在1000℃以上時,為了防止Cr等金屬元素在高的真空度下的揮發(fā),在抽真空到1~5Pa后回充氮氣,以調整爐內的真空度,防止金屬元素的揮發(fā);二是在淬火時,為了提高冷卻能力(般來說,真空度越高,無論是空冷還是油冷,則冷卻能力越差),根據(jù)不同的淬火冷卻方法、不同的爐型,而采用回充氮氣,從而選擇在不同的真空度下淬火,以得到不同的淬火烈度。補充:真空爐用氮氣濃度應≥99.999%

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